ПРОИЗВОДНЫЕ ТРИХЛОРЭТИЛАМИДОВ - НОВЫЙ ТИП БЛЕСКООБРАЗОВАТЕЛЕЙ ПРИ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОМ НАНЕСЕНИИ НИКЕЛЕВЫХ ПОКРЫТИЙ

Сосновская Н.Г. , Иванова А.О. , Никитин И.В. , Чернышева Г.Н. , Руссавская Н.В. , Данченко И.А. , Истомина Н.В. , Корчевин Н.А.

2018 / Том 8: номер 1 [ ХИМИЧЕСКАЯ ТЕХНОЛОГИЯ ]

Обсуждается влияние добавок трихлорэтиламидов некоторых сульфоновых и карбоновых кислот на формирование блестящих покрытий при электрохимическом никелировании с использованием стандартного электролита Уоттса. Из исследованных четырех соединений три показали эффект образования блестящих покрытий и одно - формирование полублестящего покрытия. Добавки вводились в электролит в количестве 0,1-0,7 г/л. Выход по току составил 78-97%. Пористость полученных покрытий 0,28-11,02 пор/см², что существенно ниже, чем при использовании некоторых других блескоообразователей. Наилучшим блескообразующим действием среди исследованных добавок обладают 1-гидрокси-2,2,2-трихлорэтиламид уксусной кислоты и 1-4-метоксифенил-2,2,2-трихлорэтиламид-4-хлорфенилсульфоновой кислоты. Блокообразующее действие трихлорэтиламидов сульфоновых кислот связано с их электрохимическим разложением на катоде, что способствует внедрению серы в никелевое покрытие в количестве 0,3 - 0,4% масс, которое определяет блеск. Действие трихлорэтиламидов карбоновых кислот, возможно, связано с их адсорбцией на поверхности катода.

Ключевые слова:

никелирование,блескообразование,трихлорэтиламиды,пористость,nickel plating,bright coatings,trichloroethyl amides,porosity

Библиографический список:

1. Gamburg Yu.D., Zangary G. Theory and practice of metal electrodeposition. New York: Springer Sci-ence+Business Media, 2011. 438 p.
2. Истомина Н.В., Сосновская Н.Г., Полякова А.О. Блестящее никелирование: проблемы и перспективы // Вестник Ангарской государственной технической академии. 2014. N 8. С. 77-80.
3. Tripathy B.C., Singh P., Muir D.M., Das S.C. Effect of organic extractants on the electrocrystallization of nickel from aqueous sulphate solution // Journal of Applied Electrochemistry. 2001. V. 34. P. 301-308.
4. Ажогин Ф.Ф. Гальванотехника. Справочное издание. М.: Металлургия, 1987. 736 с.
5. Пат. N 2089675, Российская Федерация. МПК С25D3/12. Способ никелирования деталей из стали, меди и медных сплавов / В.И. Шевелкин, В.А. Власов, Ю.Б. Рыбальченко, О.Б. Шуляковский; заявитель и патентообладатель Шевелкин Валерий Иванович. Заявка N 96120975/02, заявл. 24.10.1996, опубликовано 10.09.1997, бюл. № 17.
6. Инженерная гальванотехника в приборостроении / Под ред. А.М. Гинберга. М.: Машиностроение, 1977. 512 с.
7. Моцкуте Д.В, Бернотене Г., Буткене Р. Поведение сахарина и его N-производных при электроосаждении металлов группы железа из кислых электролитов // Электрохимия. 1996. Т. 32, N 12. С. 1472-1476.
8. Jelinek T.W. Praktische galvanotechnic. Germany: Eugen Y. Leuze Verlag Publ., 2005.
9. 623 p.
10. Скнар И.В., Скнар Ю.Е., Данилов Ф.И. Закономерности электроосаждения никелевых гальванопокрытий в присутствии некоторых серосодержащих органических добавок // Вопросы химии и химической технологии. 2008. N 4. С. 156-159.
11. Valles E., Pollina R., Gomes E/ Relation between the presence of inhibitors and deposit morphology in nickel deposition // Journal of Applied Electrochemistry. 1993. V. 23. P. 508-515.
12. Бигелис В.М., Карнута О.Я., Навалихин Л.В., Парманов Т.И., Артемова С.С., Рогаускайте Р. Исследование включений серы и кислорода в гальванических никелевых покрытиях // Электрохимия. 1994. Т. 30, N 1. С. 107-109
13. Пат N 2133305, Российская федерация. МПК С25D3/18. Электролит блестящего никелирования / Агеенко Н.С., Седойкин А.А., Поляков Н.А.; заявитель и патентообладатель Многопрофильный лицей N 84 (г. Новокузнецк). Заявка N 96104550/02, заявл. 23.02.1998, опубликовано 20.07.1999, бюл. N 14.
14. Таран Л.А., Кешнер Т.Д. Получение блестящих никелевых покрытий в присутствии 2-окси-4,6-диметилпиримидина // Журнал прикладной химии. 1983. Т. 56, N 7. С.1551-1554.
15. Кашик Т.В., Прокопьев Б.В., Атавин А.С., Мирскова А.Н., Альперт М.Л., Пилькевич С.Г., Пономарева С.М. Исследование диссоциирующей способности хлоральамидов карбоновых кислот в неводных средах // Журнал органической химии. 1971. Т. 7, вып. 8. С. 1582-1586.
16. Чернышева Г.Н., Никитин И.В., Розенцвейг И.Б. N-(2,2,2-Трихлорэтил) аренсульфонамиды в реакции N-сульфониламидирования галогензамещенных электрофилов // Журнал органической химии. 2017. Т. 53, вып. 6. С. 810-813.
17. Айзина Ю.А., Розенцвейг И.Б., Левковская Г.Г., Розенцвейг Г.Н., Мирскова А.Н. N-(2,2,2-Трихлорэтилиден) и N-(1-гидрокси-2,2,2-трихлорэтил)амиды в реакции С-амидоалкилирования функциональнозамещенных ароматических соединений // Журнал органической химии. 2002. Т. 38, вып. 2. С. 256-259.
18. Иванова А.О., Сосновская Н.Г., Никонова В.С., Леванова Е.П., Попов С.И. Использование добавок изотиурониевых солей в технологии блестящего электрохимического никелирования // Известия вузов. Прикладная химия и биотехнология. 2017. Т.7. N 4. С. 136-141.

Файлы:

• реферат (скачать | просмотреть) - скачано 21 раз
• статья (скачать | просмотреть) - скачано 62 раза