ДИНАМИЧЕСКОЕ регулирование магнитного поля в перенастраиваемой магнетронной распылительной системе

Дьяконов Алексей Геннадьевич , Фаттахов Рамиль Касымович , Лебедев Валерий Александрович

2016 / Номер 5(112) 2016 [ ЭНЕРГЕТИКА ]

Рассчитано распределение составляющих магнитного поля в зазоре перенастраиваемых магнетронных распылительных систем (ПНМРС). Полученные зависимости индукции от координат и частоты вращения позволяют определить оптимальные параметры и характеристики работы ПНМРС, что дает возможность более эффективно использовать различные функциональные покрытия на подложках сложной геометрии. Регулирование составляющих магнитного поля по отдельности в ходе технологического процесса позволяет менять свойства и технологические возможности распылительной системы.

Ключевые слова:

магнетронная распылительная система,магнитные поля,подложка сложной геометрии,термо- и износостойкие покрытия,magnetron sputtering system,magnetic fields,substrate of complex geometry,thermo- and wear-resistant coatings

Библиографический список:

1. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. М.: Радиосвязь, 1982. 72 с.
2. Дьяконов А.Г. Магнитные поля в перенастраиваемой магнетронной распылительной системе // Вестник ИрГТУ. 2013. № 8 (79). С. 185-190.
3. Пат. № 2174160, Российская Федерация. Цилиндрическая магнетронная распылительная система / А.Г. Дьяконов, Д.Г. Сорокин; ГОУ ВПО УГАТУ. № 2013109036/12; заявл. 28.02.2001; опубл. 20.08.2001. Бюл. № 27. 37 с.
4. Дьяконов А.Г., Лебедев В.А. Результаты теоретического и экспериментального определения магнитных полей в перенастраиваемой магнетронной распылительной системе // Вестник ИрГТУ. 2014. № 6 (89). С. 166-171.
5. Вольдек А.И. Индукционные магнитогидродинамические машины с жидкометаллическим рабочим телом. Л.: Энергия, 1970. 272 с.
6. Спиваков Д.Д., Парфенёнок М.А., Телегин А.П. Оборудование для нанесения покрытий реактивным магнетронным распылением в режиме двойного незатухающего разряда // Вакуумная техника и технология. 2002. Т. 12. № 3. С. 145-149.
7. Kelly P.J., Arnell R.D. Magnetron sputtering: a review of recent developments and applications // Vacuum, 56 (2000). Р. 159-172.

Файлы:

• 11.pdf (скачать | просмотреть) - скачано 36 раз